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          • HCLD-III觸摸(mo)屏高(gao)壓(ya)漏電起(qi)痕試(shi)驗(yan)機(ji)測試(shi)儀器(qi)
            HCLD-III觸摸(mo)屏高(gao)壓(ya)漏電起(qi)痕試(shi)驗(yan)機(ji)測試(shi)儀器(qi)

            更新時間(jian):2025-09-11

            型(xing)號:HCLD-III

            瀏(liu)覽量(liang):2342

            觸摸(mo)屏高(gao)壓(ya)漏電起(qi)痕試(shi)驗(yan)機(ji)測試(shi)儀器(qi)產品(pin)簡(jian)介,HCDH-200漏電起(qi)痕試(shi)驗(yan)儀適(shi)用於(yu)照(zhao)明設備、低(di)壓(ya)電器(qi)、家(jia)用電 器(qi)、機(ji)床(chuang)電器(qi)、電機(ji)、電動(dong)工(gong)具(ju)、電子(zi)儀器(qi)、電工(gong)儀表(biao)、信息(xi)技術(shu)設備的(de)研究(jiu)、生(sheng)產和(he)質檢(jian)部(bu)門(men),也適用(yong)於(yu)絕緣(yuan)材(cai)料(liao)、工(gong)程塑(su)料、電氣連接(jie)件(jian)、輔件(jian)行業。,也適用(yong) 於(yu)電氣能(neng)力(li)驗證計(ji)劃(hua)與技術(shu)研討(tao)會(hui)中(zhong)的(de)有(you)關(guan)CHEARI-PT003耐電痕(hen)化(hua)指(zhi)數測(ce)試(shi)。
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          • 華(hua)測(ce)-低(di)壓(ya)漏電起(qi)痕測(ce)試(shi)儀器(qi)
            華測(ce)-低(di)壓(ya)漏電起(qi)痕測(ce)試(shi)儀器(qi)

            更新時間(jian):2025-07-29

            型(xing)號:

            瀏(liu)覽量(liang):2548

            華(hua)測(ce)-低(di)壓(ya)漏電起(qi)痕測(ce)試(shi)儀器(qi)適用(yong)於(yu)照(zhao)明設備、低(di)壓(ya)電器(qi)、家(jia)用電器(qi)、機(ji)床(chuang)電器(qi)、電機(ji)、電動(dong)工(gong)具(ju)、電子(zi)儀器(qi)、電工(gong)儀表(biao)、信息(xi)技術(shu)設備的(de)研究(jiu)、生(sheng)產和(he)質檢(jian)部(bu)門(men),也適用(yong)於(yu)絕緣(yuan)材(cai)料(liao)、工(gong)程塑(su)料、電氣連接(jie)件(jian)、輔件(jian)行業也適用(yong)於(yu)電氣能(neng)力(li)驗證計(ji)劃(hua)與技術(shu)研討(tao)會(hui)中(zhong)的(de)有(you)關(guan)CHEARI-PTO03耐電痕(hen)化(hua)指(zhi)數測(ce)試(shi)。
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          • HCDH-3高(gao)壓(ya)漏電起(qi)痕試(shi)驗(yan)儀/測(ce)試儀器(qi)
            HCDH-3高(gao)壓(ya)漏電起(qi)痕試(shi)驗(yan)儀/測(ce)試儀器(qi)

            更新時間(jian):2025-06-06

            型(xing)號:HCDH-3

            瀏(liu)覽量(liang):2469

            HCLD-3系(xi)列(lie)高(gao)壓(ya)漏電起(qi)痕試(shi)驗(yan)儀/測(ce)試儀器(qi)采(cai)用PLC作為主控(kong)制系(xi)統(tong),配(pei)合電壓(ya)、電流(liu)傳感 器(qi)、高(gao)壓(ya)真(zhen)空(kong)斷路(lu)開(kai)關(guan)、高(gao)壓(ya)交直(zhi)流(liu)變壓(ya)器元件(jian)構成(cheng)。高(gao)壓(ya)耐漏(lou)電起(qi)痕試(shi)驗(yan)是(shi)在(zai)工(gong)頻(pin)電壓(ya)下(xia),通過(guo)液(ye)體汙染和(he)傾斜試樣(yang)評定在(zai)嚴(yan)酷(ku)環境(jing)條件(jian)下(xia)使(shi)用的(de)電氣絕緣(yuan)材(cai)料(liao)耐漏(lou)電起(qi)痕和(he)耐電蝕(shi)損(sun)。其評定的(de)方法有(you)兩(liang)種,即恒定漏電起(qi)痕電壓(ya)法和(he)逐(zhu)級(ji)升(sheng)壓(ya)漏電起(qi)痕電壓(ya)法。
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          • HCLD-III優(you)質產品(pin)供(gong)應(ying)耐電痕(hen)化(hua)漏電起(qi)痕測(ce)試(shi)儀器(qi)
            HCLD-III優質產品(pin)供(gong)應(ying)耐電痕(hen)化(hua)漏電起(qi)痕測(ce)試(shi)儀器(qi)

            更新時間(jian):2025-06-06

            型(xing)號:HCLD-III

            瀏(liu)覽量(liang):2362

            優(you)質產品(pin)供(gong)應(ying)耐電痕(hen)化(hua)漏電起(qi)痕測(ce)試(shi)儀器(qi)HCLD-III適用(yong)於(yu)對電工(gong)電子(zi)產品(pin)、家(jia)用電器(qi)及(ji)其材(cai)料(liao)進行耐電痕(hen)化(hua)和(he)蝕損(sun)的(de)試(shi)驗(yan),模擬在(zai)工(gong)頻(pin)(48Hz - 62Hz)下(xia),用液體(ti)汙染物和(he)斜面試(shi)樣(yang),通過(guo)耐電痕(hen)化(hua)和(he)蝕損(sun)的(de)測(ce)量(liang)評定在(zai)環境(jing)條件(jian)下(xia)使(shi)用的(de)電氣絕緣(yuan)材(cai)料(liao)的(de)耐電痕(hen)化(hua)和(he)蝕損(sun)等(deng)級(ji)。本(ben)機(ji)是嚴(yan)格(ge)按照(zhao)GB/T6553-2003 及 IEC60587-1984設計(ji)制造。
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          • HCLD-Ⅲ型(xing)華(hua)測(ce)實(shi)驗(yan)儀器(qi)-高(gao)壓(ya)漏電起(qi)痕試(shi)驗(yan)裝(zhuang)置
            HCLD-Ⅲ型(xing)華(hua)測(ce)實(shi)驗(yan)儀器(qi)-高(gao)壓(ya)漏電起(qi)痕試(shi)驗(yan)裝(zhuang)置

            更新時間(jian):2025-09-11

            型(xing)號:HCLD-Ⅲ型(xing)

            瀏(liu)覽量(liang):2862

            高(gao)壓(ya)漏電試(shi)驗(yan)儀采(cai)用控(kong)制系(xi)統(tong),擯(bin)棄(qi)了現有的(de)低(di)壓(ya)切斷原原理,采(cai)用高(gao)壓(ya)真(zhen)空(kong)切斷技術(shu),使(shi)試驗過(guo)程合理(li)。采(cai)用5組(zu)電流(liu)傳感器(qi)用(yong)以(yi)控制每(mei)組(zu)試(shi)驗的(de)高(gao)壓(ya)切斷,使(shi)數據(ju)采(cai)集精確,同時本設備采(cai)用電力(li)系(xi)統(tong)過(guo)壓(ya)過(guo)流(liu)保(bao)護裝(zhuang)置。
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