漏(lou)電起痕(hen)試驗儀-北京華測試驗儀器有限(xian)公司(si)

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多通(tong)道電流矩陣(zhen)模塊(kuai) 鐵(tie)電分析(xi)儀高(gao)壓功率放大器塞貝(bei)克(ke)系(xi)數(shu)電阻測試儀先(xian)進(jin)功能材(cai)料(liao)電測綜合測試系統(tong)- 絕緣電阻劣化（離(li)子(zi)遷移）評(ping)估(gu)系統(tong) 儲(chu)能(neng)新(xin)材(cai)料(liao)電學綜合測試系統(tong) 半導(dao)體(ti)封(feng)裝(zhuang)材(cai)料(liao)真空探(tan)針(zhen)臺(tai) 空間(jian)電荷測試系統(tong) 電容器溫(wen)度特(te)性(xing)評(ping)估(gu)系統(tong) 高(gao)頻高(gao)壓絕緣電阻、介電多通(tong)道極化(hua)裝(zhuang)置(zhi) 絕緣電阻率測試儀高(gao)低溫(wen)冷熱(re)臺(tai)測試系統(tong) 50點(dian)耐(nai)壓測試儀電壓擊穿測定(ding)儀(yi) 耐(nai)電弧(hu)試驗儀探針(zhen)臺(tai) 漏(lou)電起痕(hen)試驗儀多通(tong)道介電與電阻測試系統(tong)

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華測-高(gao)壓漏(lou)電起痕(hen)測試儀器

更新時(shi)間(jian)：2025-06-06

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華測-高(gao)壓漏(lou)電起痕(hen)測試儀器配合電壓、電流傳(chuan)感(gan)器、高(gao)壓真空斷路(lu)開(kai)關(guan)、高(gao)壓交直流(liu)變(bian)壓器元件構成。高(gao)壓漏(lou)電起痕(hen)試驗是在工頻電壓下,通(tong)過(guo)液體(ti)汙染和傾斜試樣評定(ding),在(zai)環(huan)境條(tiao)件下使(shi)用(yong)的電氣(qi)絕緣材(cai)料(liao)耐(nai)漏(lou)電起痕(hen)和(he)耐(nai)電蝕損(sun)。其(qi)評定(ding)的(de)方法有兩種,即恒(heng)定(ding)漏(lou)電起痕(hen)電壓法和逐(zhu)級升壓漏(lou)電起痕(hen)電壓法。
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HCDH-3華測高(gao)壓漏(lou)電起痕(hen)測試儀CTI/PTI

更新時(shi)間(jian)：2025-06-06

型(xing)號：HCDH-3

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華測高(gao)壓漏(lou)電起痕(hen)測試儀，是(shi)指(zhi)在固(gu)體(ti)絕緣材(cai)料(liao)表(biao)面(mian)，在(zai)電場和電解(jie)液的(de)聯(lian)合(he)作用(yong)下逐(zhu)漸形成導(dao)電通(tong)路(lu)的(de)過(guo)程(cheng)。這個過(guo)程(cheng)被稱為(wei)漏(lou)電起痕(hen)，而(er)絕緣材(cai)料(liao)表(biao)面(mian)抗(kang)漏(lou)電起痕(hen)的(de)能(neng)力則(ze)稱為耐(nai)漏(lou)電起痕(hen)。漏(lou)電起痕(hen)試驗是評估絕緣材(cai)料(liao)在特(te)定(ding)條(tiao)件下的(de)耐(nai)漏(lou)電性(xing)能(neng)的(de)壹種方法，通(tong)過(guo)模擬(ni)在潮濕或汙染介質聯(lian)合(he)作用(yong)下的(de)環境，測定(ding)材(cai)料(liao)的相比(bi)漏(lou)電起痕(hen)指(zhi)數(shu)（CTI）和耐(nai)電痕(hen)化(hua)指(zhi)數（PTI）。華測高(gao)壓漏(lou)電起痕(hen)測試儀CTI/PTI
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HCLD-3漏(lou)電起痕(hen)試驗儀

更新時(shi)間(jian)：2025-07-29

型(xing)號：HCLD-3

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華測儀器-低壓漏(lou)電起痕(hen)試驗儀是按(an)IEC60695、GB4207/IEC60112等(deng)標準要(yao)求(qiu)設計(ji)制(zhi)造的(de)試驗儀器。適用(yong)於固(gu)體(ti)絕緣材(cai)料(liao)在潮濕條(tiao)件下相(xiang)比(bi)漏(lou)電起痕(hen)指(zhi)數(shu)和耐(nai)漏(lou)電起痕(hen)指(zhi)數(shu)的測定(ding)，具(ju)有簡便(bian)、準確(que)、可靠(kao)、實(shi)用(yong)等特(te)點(dian)。
了(le)解(jie)詳(xiang)情
HCDH-300低壓漏(lou)電起痕(hen)測試儀器

更新時(shi)間(jian)：2025-07-29

型(xing)號：HCDH-300

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低壓漏(lou)電起痕(hen)測試儀器（電痕(hen)化(hua)指(zhi)數試驗）是在固(gu)體(ti)絕緣材(cai)料(liao)表(biao)面(mian)上(shang)，在(zai)規定(ding)尺(chi)寸(cun) （ 2mm × 5mm ）的鉑(bo)電極之(zhi)間(jian)，施(shi)加某(mou)壹電壓並定(ding)時(shi) （30s）定(ding)高(gao)度（ 35mm ）滴下(xia)規(gui)定(ding)液滴(di)體(ti)積(ji)的(de)導(dao)電液體(ti) （0.1%NH 4 CL），用(yong)以評價(jia)固(gu)體(ti)絕緣材(cai)料(liao)表(biao)面(mian)在(zai)電場和潮濕或汙染介質聯(lian)合(he)作用(yong)下的(de)耐(nai)漏(lou)電，測定(ding)其(qi)相比(bi)電痕(hen)化(hua)指(zhi)數（CT1）和耐(nai)電痕(hen)化(hua)指(zhi)數（PT1）。
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HCDH-200華測固(gu)體(ti)絕緣材(cai)料(liao)耐(nai)電痕(hen)化(hua)指(zhi)數測試儀

更新時(shi)間(jian)：2024-06-04

型(xing)號：HCDH-200

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華測固(gu)體(ti)絕緣材(cai)料(liao)耐(nai)電痕(hen)化(hua)指(zhi)數測試儀，主(zhu)要(yao)是模擬(ni)家用(yong)電器產(chan)品在(zai)實(shi)際(ji)使(shi)用(yong)中不同極性(xing)帶(dai)電部件在絕緣材(cai)料(liao)表(biao)面(mian)沈(chen)積的(de)導電物(wu)質是(shi)否(fou)引(yin)起絕緣材(cai)料(liao)現(xian)在(zai)爬電、擊穿短路(lu)和起火(huo)危(wei)險(xian)。電氣(qi)產(chan)品在(zai)使(shi)用(yong)過程(cheng)中，由(you)於環(huan)境的(de)汙染導致絕緣材(cai)料(liao)表(biao)面(mian)有汙物(wu)、潮氣(qi)而產(chan)生的(de)漏(lou)電，因此誘(you)發的(de)腐蝕(shi)而損(sun)壞(huai)絕緣。
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HCDH-200北京華測耐(nai)電痕(hen)化(hua)指(zhi)數測試儀器

更新時(shi)間(jian)：2024-06-08

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北(bei)京(jing)華測耐(nai)電痕(hen)化(hua)指(zhi)數測試儀器主要是模擬(ni)家用(yong)電器產(chan)品在(zai)實(shi)際(ji)使(shi)用(yong)中不同極性(xing)帶(dai)電部件在絕緣材(cai)料(liao)表(biao)面(mian)沈(chen)積的(de)導電物(wu)質是(shi)否(fou)引(yin)起絕緣材(cai)料(liao)現(xian)在(zai)爬電、擊穿短路(lu)和起火(huo)危(wei)險(xian)。電氣(qi)產(chan)品在(zai)使(shi)用(yong)過程(cheng)中，由(you)於環(huan)境的(de)汙染導致絕緣材(cai)料(liao)表(biao)面(mian)有汙物(wu)、潮氣(qi)而產(chan)生的(de)漏(lou)電，因此誘(you)發的(de)腐蝕(shi)而損(sun)壞(huai)絕緣。
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HCDH-200耐(nai)電痕(hen)化(hua)指(zhi)數測試儀器

更新時(shi)間(jian)：2023-08-29

型(xing)號：HCDH-200

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耐(nai)電痕(hen)化(hua)指(zhi)數測試儀器主要是模擬(ni)家用(yong)電器產(chan)品在(zai)實(shi)際(ji)使(shi)用(yong)中不同極性(xing)帶(dai)電部件在絕緣材(cai)料(liao)表(biao)面(mian)沈(chen)積的(de)導電物(wu)質是(shi)否(fou)引(yin)起絕緣材(cai)料(liao)現(xian)在(zai)爬電、擊穿短路(lu)和起火(huo)危(wei)險(xian)。電氣(qi)產(chan)品在(zai)使(shi)用(yong)過程(cheng)中，由(you)於環(huan)境的(de)汙染導致絕緣材(cai)料(liao)表(biao)面(mian)有汙物(wu)、潮氣(qi)而產(chan)生的(de)漏(lou)電，因此誘(you)發的(de)腐蝕(shi)而損(sun)壞(huai)絕緣。
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HCDH-200北京華測*耐(nai)電痕(hen)化(hua)指(zhi)數測試儀器

更新時(shi)間(jian)：2023-08-29

型(xing)號：HCDH-200

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北(bei)京(jing)華測*耐(nai)電痕(hen)化(hua)指(zhi)數儀（電痕(hen)化(hua)指(zhi)數試驗）是在固(gu)體(ti)絕緣材(cai)料(liao)表(biao)面(mian)上(shang)，在(zai)規定(ding)尺(chi)寸(cun) （ 2mm × 5mm ）的鉑(bo)電極之(zhi)間(jian)，施(shi)加某(mou)壹電壓並定(ding)時(shi) （30s）定(ding)高(gao)度（ 35mm ）滴下(xia)規(gui)定(ding)液滴(di)體(ti)積(ji)的(de)導(dao)電液體(ti) （0.1%NH 4 CL），用(yong)以評價(jia)固(gu)體(ti)絕緣材(cai)料(liao)表(biao)面(mian)在(zai)電場和潮濕或汙染介質聯(lian)合(he)作用(yong)下的(de)耐(nai)漏(lou)電，測定(ding)其(qi)相比(bi)電痕(hen)化(hua)指(zhi)數（CT1）和耐(nai)電痕(hen)化(hua)指(zhi)數（PT1）。北京華測*耐(nai)電痕(hen)化(hua)指(zhi)數測試儀器
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