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          功(gong)率器件高(gao)壓(ya)TSDC測(ce)試系(xi)統(tong)的原理是什麽?

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          功(gong)率器件高(gao)壓(ya)TSDC測試系(xi)統(tong)的原理是什麽?

           

          產品(pin)概(gai)述(shu):

          熱刺(ci)激去(qu)極化(hua)電流(TSDC)技術(shu)用於(yu)預測(ce)EMC的HTRB性能。TSDC方(fang)法(fa)包括極化(hua)過程(cheng),在(zai)該過程(cheng)中,電介(jie)質樣(yang)品(pin)暴(bao)露(lu)在(zai)高(gao)電(dian)場(chang)強(qiang)度(du)和(he)高(gao)溫環(huan)境下(xia)。在(zai)這種情況下(xia),電(dian)荷(he)被分(fen)離並(bing)在(zai)介(jie)電材料(liao)電子(zi)元(yuan)件中移動。盡(jin)管(guan)單(dan)個TSDC信號(hao)和(he)HTRB性能之間(jian)的相關性表明(ming),極化(hua)峰值越

          高(gao),TSDC曲(qu)線(xian)越(yue)大(da),而(er)HTRB性能越(yue)差,但(dan)這(zhe)並(bing)不能(neng)全(quan)解(jie)釋(shi)EMC在(zai)發出(chu)強(qiang)放(fang)電信號(hao)時的某些(xie)故(gu)障。因(yin)此,弛豫時(shi)間(jian)是(shi)解(jie)釋(shi)外(wai)層HTRB失(shi)效(xiao)樣(yang)本(ben)的另壹個關鍵(jian)參數(shu)。

          關於(yu)環氧(yang)塑(su)封(feng)料(liao)(EMC, Epoxy Molding Compound)TSDC測試技術(shu),為華測(ce)公司在(zai)國內(nei)最早(zao)提及(ji)目前已(yi)被廣(guang)泛應用(yong)到更(geng)多(duo)的半導(dao)體(ti)封裝(zhuang)材料(liao)及半導(dao)體(ti)生(sheng)產研(yan)發(fa)企(qi)業。已(yi)證(zheng)明(ming)此測(ce)試方(fang)式是(shi)有效(xiao)的,同(tong)時(shi)加(jia)速(su)國產化(hua)IGBT、MOSFET等功(gong)率器件的研發(fa)。如(ru)無(wu)錫(xi)凱華、中科科化(hua)、飛凱材料(liao)等企(qi)業。

          產品(pin)原(yuan)理:TSDC是壹種研究(jiu)電荷(he)存(cun)儲(chu)特(te)性的實驗技術(shu),用於(yu)確定(ding)初始(shi)電(dian)荷(he)和(he)捕獲電(dian)荷(he)的活(huo)化(hua)能以(yi)及弛豫,該方(fang)法(fa)包括壹個極化(hua)過程(cheng),其中介(jie)電樣(yang)品(pin)在(zai)高(gao)溫下(xia)暴(bao)露(lu)於(yu)高(gao)電(dian)場(chang)強(qiang)度(du)下(xia)。在(zai)此之後(hou),試樣(yang)在(zai)外加(jia)電場(chang)的作用(yong)下(xia)迅(xun)速(su)進(jin)行冷(leng)卻。以(yi)這種方(fang)式,電(dian)荷(he)被分(fen)離並(bing)固(gu)定(ding)在(zai)介(jie)電材料(liao)駐(zhu)極體(ti)內(nei)。然(ran)後(hou)進(jin)行升溫將駐(zhu)極體(ti)內(nei)的電荷(he)進(jin)行釋(shi)放(fang),同(tong)時(shi)配(pei)合測(ce)量儀器(qi)進(jin)行測量(liang),並(bing)為科研(yan)人(ren)員(yuan)進(jin)行分(fen)析(xi)。通過TSDC測(ce)試方(fang)法(fa)研究(jiu)了(le)EMC對(dui)功(gong)率半導(dao)體(ti)HTRB可靠(kao)性的影響,了(le)解(jie)到EMC在(zai)高(gao)溫、高(gao)壓(ya)條(tiao)件下(xia)會(hui)發(fa)生(sheng)電極化(hua)或電取(qu)向(xiang)。此(ci)外,依(yi)賴於(yu)在(zai)相應(ying)的冷(leng)卻環(huan)境中維持其極化(hua)狀態(tai),它(ta)會(hui)幹(gan)擾(rao)MOS-FET半導(dao)體(ti)中反(fan)轉層的正常(chang)形(xing)成。通過TSDC試驗,我們(men)還了(le)解(jie)了(le)在(zai)可靠(kao)性測試中由於(yu)應用(yong)條(tiao)件而(er)導(dao)致(zhi)的材料(liao)內(nei)部極化(hua)電荷(he)的數(shu)量(liang)也(ye)是壹個重要的影響因(yin)素。

          產品(pin)參數(shu):

          設備型(xing)號(hao)HC-TSC

          溫度(du)範(fan)圍-185 ~ 600°C

          控(kong)溫精(jing)度(du)±0.25°C

          升溫斜(xie)率10°C/min(可設定)

          測試頻(pin)率最大(da)電(dian)壓(ya):±10kV

          加熱方(fang)式直流電極加(jia)熱

          冷(leng)卻方(fang)式水冷(leng)

          樣(yang)品(pin)尺(chi)寸(cun)φ<25mm,d<4mm

          電極材料(liao)黃(huang)銅或銀

          夾具輔(fu)助材料(liao) 99氧化(hua)鋁(lv)陶瓷(ci)

          低(di)溫制冷(leng)液氮

          測試功(gong)能(neng) TSDC

          數(shu)據(ju)傳(chuan)輸RS-232  

          設備尺(chi)寸(cun) 180 x 210 x 50mm

           

          北(bei)京(jing)華測試驗儀器(qi)有限公司
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